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产品概述

GSR065D013A

GSR065D013 系列 650V、150mΩ 氮化镓 (GaN) FET 为常关型器件。 它通过结合先进的高压 GaNHEMT 与低压硅 MOSFET来提供卓越的可靠性和性能。

氮化镓芯片 电源芯片 GaN芯片 第三代半导体
产品规范 技术支持与服务

产品简介

GSR065D013A(650V SuperGaN® GaN FET in PQFN )

GSR065D013 系列 650V、150mΩ 氮化镓 (GaN) FET 为常关型器件。 它通过结合先进的高压 GaNHEMT 与低压硅 MOSFET来提供卓越的可靠性和性能。通过更低的栅极电荷、更低的交叉损耗和更小的反向恢复电荷提供比硅更高的效率。

产品特征

  • 通过JEDEC认证的氮化镓技术
  • 动态导通电阻生产测试
  • 稳健的设计,定义为
    • 固有寿命测试
    • 宽栅安全裕度
    • 瞬态过压能力
  • 极低的QRR
  • 减少交叉损耗
  • 符合 RoHS 标准和无卤指令封装

 

产品优点

  • 提高硬开关和软开关电路的效率
  • 提高功率密度
  • 减小系统尺寸和重量
  • 整体系统成本更低
  • 使用常用的栅极驱动器易于驱动
  • GSD引脚布局改进了高速设计

 

主要规格
VDS (V) min650
VDSS(TR) (V) max800
RDS(on) (mΩ) max*180
QRR (nC) typ40
QG (nC) typ8

绝对最大额定值 (Tc=25°C 除非另有说明)

 

SymbolParameterLimit ValueUnit
VDSSDrain to source voltage (TJ = -55°C to 150°C)650

 

V

VDSS(TR)Transient drain to source voltage a800
VGSSGate to source voltage±20
PDMaximum power dissipation @TC=25°C52W

 

ID

Continuous drain current @TC=25°C  b13A
Continuous drain current @TC=100°C  b8.4A
IDMPulsed drain current (pulse width: 10µs)60A
TC

 

Operating temperature

Case-55 to +150°C
TJJunction-55 to +150°C
TSStorage temperature-55 to +150°C
TSOLDReflow soldering temperature c260°C

 

Notes:

  1. 在关断状态下,峰值占空比D<0.01,峰值持续时间为30m秒。不重复。
  2. 为了提高高电流操作下的稳定性,请参见第 3 页上的电路实现
  3. 回流焊 MSL3

热阻

 

SymbolParameterTypicalUnit
RΘJCJunction-to-case2.4°C/W
RΘJAJunction-to-ambient  d50°C/W

Notes:

  1. 用于漏极连接的一层环氧树脂 PCB 上的器件(垂直且无气流冷却,铜面积为 6cm2,厚度为 70µm)

电气参数 (TJ=25°C 除非另有说明)

 

SymbolParameterMinTypMaxUnitTest Conditions
Forward Device Characteristics
VDSS(BL)Maximum drain-source voltage650VVGS=0V
VGS(th)Gate threshold voltage3.344.8V

 

VDS=VGS, ID=0.5mA

ΔVGS(th)/TJ

Gate threshold voltage temperature

coefficient

-5.8mV/°C

 

RDS(on)eff

 

Drain-source on-resistance  a

150180

 

mΩ

VGS=10V, ID=8.5A, TJ=25°C
307VGS=10V, ID=8.5A, TJ=150°C

 

IDSS

 

Drain-to-source leakage current

2.525

 

µA

VDS=650V, VGS=0V, TJ=25°C
10VDS=650V, VGS=0V, TJ=150°C

 

IGSS

Gate-to-source forward leakage current100

 

nA

VGS=20V
Gate-to-source reverse leakage current-100VGS=-20V
CISSInput capacitance598

 

pF

 

VGS=0V, VDS=400V, f=1MHz

COSSOutput capacitance30
CRSSReverse transfer capacitance1
CO(er)Output capacitance, energy related b43

 

pF

 

VGS=0V, VDS=0V to 400V

CO(tr)Output capacitance, time related c85
QGTotal gate charge8

 

nC

 

VDS=400V, VGS=0V to 10V, ID=8.5A

QGSGate-source charge3.3
QGDGate-drain charge2
QOSSOutput charge34nCVGS=0V, VDS=0V to 400V
tD(on)Turn-on delay37.8

 

 

ns

 

VDS=400V, VGS=0V to 12V, ID=10A, RG=70Ω, ZFB=240Ω at

100MHz ( See Figure 14)

tRRise time5.2
tD(off)Turn-off delay48
tFFall time8

Notes:

  1. 动态导通电阻;有关测试电路和条件,条件见图18和图19
  2. 当VDS从0V上升到400V时,提供相同存储能量的等效电容
  3. 当VDS从0V上升到400V时,提供相同充电时间的等效电容


电气参数 (TJ=25°C 除非另有说明)

 

SymbolParameterMinTypMaxUnitTest Conditions
Reverse Device Characteristics
ISReverse current8.3A

VGS=0V, TC=100°C,

≤20% duty cycle

 

VSD

 

Reverse voltage  a

2.4

 

V

VGS=0V, IS=10A
1.6VGS=0V, IS=5A
tRRReverse recovery time31ns

IS=10A, VDD=400V,

di/dt=1000A/ms

QRRReverse recovery charge40nC

Notes:

a.        包括动态 RDS(on) 的影响


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江苏镓宏半导体有限公司

江苏镓宏半导体有限公司(原徐州金沙江半导体有限公司)成立于2021年,项目发起人为氮化镓领域(GaN HEMT、氮化镓HEMT等GaN 功率晶体管器件,以及氮化镓外延片、氮化镓应用技术)领军人物, 以业内领先的氮化镓功率器件和其全新应用为拳头产品,充分发挥国际领先的6-8寸硅基氮化镓功率器件全套生产制造技术的优势,汇集供应链资源、核心技术、产品制造、核心客户、资本市场和地方政府支持等关键资源,组织筹建新型的IDM产品平台,助力中国在第三代半导体产业领域的跨越式发展。

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